第320章 前世网上最常见的话题

对于高振东这话，俞允成是承认的，看现在部里的态度，说得夸张点就是，他哪怕就写个名字和金额上去，部里批准的概率也很大，就别说没有具体过程这种小事了，一句保密需要就解决了问题。

主要是人家能出货啊，这比什麽东西都硬，说服力都强。远的不说，就不久前单晶炉加矽单晶这一套成果，部里就吃得饱饱的。

对于高振东当甩手掌柜，让他来写材料，俞允成也是求之不得，这可是一手资料，不到那份儿上的人，想接手？美得你。看都不给看一眼的好吧。

俞允成美滋滋的跑去做苦力的过程中，高振东这里也迎来了又一批客人。

——1274厂的吕厂长和鲁总工。

这两位可是有点儿急不可耐，单晶炉刚搞完，他们就已经迫不及待的击败了在一旁虎视眈眈的1218厂，将在高振东带领下开展半导体工艺研究的活儿揽了下来。

这一次，就是过来将前期的厂内资源调研工作结果通报一下，以准备下一步工作的。

高振东热情的接待了两人，仔细的研究了他们带来的1274厂的现状。

作为大毛子直接支援的那一批厂子之一，1274厂无疑代表了国内半导体工艺的最高水平，从他们的情况，就能很明确的知道国内的半导体制造工艺。

看完了1274厂的情况，高振东有一点抠脑袋，这厂子是真的是彻彻底底生产晶体三极体的，而且是那种比较原始的生产工艺。

这麽说吧，一块儿几毫米见方的矽片，在日后可以在上面做出一个CPU来，可是在这时候的大多数半导体厂里，只够做一个三极体，甚至半个。

与日后掩膜丶光刻丶掺杂丶金属沉积等等一系列操作不同，这时候的国内，三极体是师从大毛子，三极体不是在一片矽片或者锗片上经过多次掺杂得到PNP结或者NPN结，反而看起来像是把几块不同掺杂的原料叠在一起，得到PNP或者NPN结。

虽说这种工艺日后也在用，不过如果是想用在集成电路上，那明显就是想多了，虽然58年的第一块集成电路也没好到哪里去，可是至少没有玩儿这种简单粗暴的叠叠乐，虽然长得丑，但还是老实使用的平面电晶体的工艺，毕竟集成电路的标志之一，就是这种工艺了。

看来要搞的事情，还不少啊。

这就回到了前世在网上互喷的时候，最常见的话题——光刻机。

光刻机是一定要搞的，这是其中最重要的一个工序，没有这个，其他的CVD丶PVD丶气体扩散丶蒸镀丶掺杂这些技术都会失去意义。

从原理上来说就是，通过光刻技术，可以实现在指定区域进行掺杂丶蚀刻丶导线连接丶形成工作结构等操作。

严格说来，说「光刻机在矽片上刻出电路」是不对的。光刻本身是刻不出PN结，也形不成电路的，光刻只是为PN结丶导线连接丶内部元件的按要求产生，提供了一个条件，它刻出的，是电路的雏形，以及提供保护。

就有点点类似我们在对工件喷漆的时候，会用报纸把工件上不需要喷漆的部分保护起来，仅此而已。

但是没有这个保护，结果就好像在没有盖报纸的工件上喷漆，控制得再好，也会喷到不需要的地方去，这工件就废了，更别说在矽片这小的螺蛳壳里做道场了。

不过光刻机这玩意，高振东现在根本就不去想什麽紫外丶极紫外光刻，浸润光刻，多次曝光这些鸟玩意，整个技术环境根本支撑不了的。

他要搞的，就是用自己亲手做出来的现成的东西——雷射光刻，同时光刻制程，他根本就不去想多少纳米，连微米级别都嫌高。

对他来说，甚至只要亚毫米级别的就好，也就是100微米到10微米这个级别，能在1平方厘米的面积上，放下十来个乃至几十个电晶体就行。

可别小看这个密度，已经能做很多事情了，尤其是对于DJS-60D乃至他规划中的二代高性能计算机来说。

而且搞数字电路的都知道，有了合适的数字电路晶片，哪怕没有计算机，也能玩儿出很多花活，用简单的代价，实现很多控制需求了。

对于这个制程精度，随便什麽雷射，其波长都是足够小了，功率也比较容易实现。

至于极紫外光刻机，那是由于光刻制程小到一定程度的需求，而且功率很难做大，这时候想那玩意完全是做梦呢。

至于亚毫米精度的光刻能不能实现，高振东还是有一定信心的，大不了请相关单位手搓几套光路系统，光源自己上就行，他可不只会红宝石雷射器。

作为前世的资深军迷，他心里门儿清，东北光学所可不是吃乾饭的，那是相当牛逼的一个存在。

而且原本来说，国内的集成电路其实起步并不晚，与普通人直觉反应相悖的是，我们的第一块集成电路，诞生于1965年，实用化的半自动接近式光刻机，诞生于1977年，这是一台解析度可达2.5~5微米的光刻机，而仿制成功8080CPU，是在1979年，比汉斯猫还早一年。

总体来说，其技术水平，大概